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原子层沉积技术可改善Micro LED的性能

2019-04-29

原子层沉积技术可改善Micro LED的性能

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2019-04-29 作者: 来源:OFweek半导体照明网 网友评论: 

摘要: 据外媒报道,工业原子层沉积(ALD)薄膜涂层技术领先供应商Picosun集团日前表示,通过使用一种称为ALD钝化的技术提高了其Micr LED的性能。

  据外媒报道,工业原子层沉积(ALD)薄膜涂层技术领先供应商Picosun集团日前表示,通过使用一种称为ALD钝化的技术提高了其Micr LED的性能。


  Picosun认为,对于包括液晶显示器、OLED以及传统LED等现有显示技术来讲,Micro LED是一大挑战。因为Micro LED提供了包括体积小、低功耗、**的亮度及能效、更高的对比度及色彩饱和度、超高分辨率、灵活性以及良好的可靠性等性能。


  目前全球许多领先的电子制造商和研发机构都在抓紧研发Micro LED。这类Micro LED设备通常用于包括平板电脑、智能手机和智能手表等设备的小尺寸屏幕中。


  但是,Micro LED技术的一些缺点,也阻碍了该技术的全面商业突破。Micro LED屏幕由可产生绿色、蓝色和红色光的微小的像素组成,而制造这些像素的一些步骤容易导致其精细纳米级结构的损坏,进而会导致光强度的损失。


  Picosun表示,现已证实ALD“可以有效地修复这些结构损坏,不仅可以恢复照明强度,还可以将其提高到更高水平。”


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